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全自動晶片超聲波清洗機用于清洗石英晶片、夾具、硅片、藍寶石片、光學晶片等器件，環(huán)形結(jié)構(gòu)設(shè)計，全自動流程，采用觸摸屏PLC控制，操作簡便，可以節(jié)省大量人力，節(jié)約成本，給企業(yè)帶來可觀的效益。 主要特點： 采用進口元器件，如：三菱、臺達、西門子等品牌。 主要功能：超聲波清洗機、加熱溫控、時間控制、循環(huán)過濾、變頻調(diào)速等。 超聲波頻率采用多種頻率：如：28KHz，40KHz，150KHz。

LC半自動超聲波清洗機本機是仿日本晶片清洗機，在原來的基礎(chǔ)上進行改進、設(shè)計，功能多，但易操作，主要用于清洗晶片、硅片、五金小件、光學玻璃、光學鏡片等。

外延片（硅片）腐蝕清洗機手動方式實現(xiàn)放件，取件，槽體間傳送件；腐蝕工藝自動補藥液，保證了工藝槽在運行過程中濃度的穩(wěn)定性。

半自動超聲波清洗機本機主要適用于藍寶石片、硅片、石英晶片、機械五金件等零件的清洗。本機經(jīng)濟實用，性能可靠，維護方便。

全自動陶瓷盤式超聲波清洗機本機用于藍寶石外延片生產(chǎn)中所用陶瓷盤的清洗，主要去處陶瓷盤上的膠質(zhì)、附著物等。全自動控制，也可手動控制，節(jié)約人力，清洗效果好，是廣電生產(chǎn)企業(yè)的*生產(chǎn)設(shè)備。

MESA/SC晶片清洗設(shè)備該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設(shè)備水平。采用進口PP板制作。 適用MESA*SC晶片清洗。 超聲功率強勁，性能穩(wěn)定。 采用進口超聲波電源。

硅片擴散超聲波清洗機該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。該設(shè)備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇，清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗（HF）、純水清洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設(shè)備水平，但價格、售后服務、備品備件的供給

LCS系列立式旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機本機是主要應用于太陽能電池和半導體硅片等的沖洗甩干工藝環(huán)節(jié)，具有容量大、效率高的特點。

全自動硅片（晶片）超聲波清洗機是用于清洗石英晶片、夾具、硅片、藍寶石片、光學晶片等器件，環(huán)形結(jié)構(gòu)設(shè)計，全自動流程，采用觸摸屏PLC控制，操作簡便，可以節(jié)省大量人力，節(jié)約成本，給企業(yè)帶來可觀的效益